国产口爆吞精在线视频2020版,久久婷婷五月综合色国产香蕉,77777五月色婷婷丁香视频



中文

產品

產品分類

全部分類 



您現在的位置:

首頁

產品

真空鍍膜系統

多弧+磁控濺射復合鍍膜機

該設備可沉積金屬、合金、及多種介質膜，可進行反應濺射；用于硬質膜，裝飾膜及其它功能膜的研究開發。

熱蒸發、磁控濺射鍍膜機

該設備在同一真空室內具有熱蒸發和磁控濺射鍍膜功能，用于各種單層膜、多層膜和摻雜膜系沉積；可鍍各種硬質膜、金屬膜、合金、化合物、半導體、陶瓷膜、介質復合膜，亦可鍍鐵磁材料。

電阻式熱蒸發鍍膜機

該設備為高真空多用途電阻蒸發鍍膜機，四對電極可單獨或同時蒸發不同的材料。設備為立式頂開蓋結構，四對電極可單獨或共蒸發，樣品Φ300（max），樣品臺公自轉，公轉轉速2-20rpm可調；流量計控制氣體流量，滿足離子轟擊壓力要求。

雙腔室四靶磁控濺射鍍膜機

該設備用于通過磁控濺射法沉積金屬薄膜、陶瓷膜、介質膜等，用戶可以根據工藝的需要選擇單靶獨立工作、四靶輪流工作或四靶任意組合共濺等工作模式。該設備由主腔室和預備室兩個真空室組成。主腔室用于鍍制薄膜，完成用戶主要鍍膜工藝過程。預備室通過高真空插板閥與主腔室相連，可以用于鍍膜前基片與鍍膜后薄膜的等離子清洗，并可以在不破壞主腔室真空的條件下更換基片。

雙腔室多功能磁控濺射鍍膜機

該設備用于各種單層膜、多層膜和摻雜膜系沉積。可鍍各種硬質膜、金屬膜、合金、化合物、半導體、陶瓷膜、介質復合膜，亦可鍍鐵磁材料。圖示鍍膜機為雙腔室，共用高真空系統；為避免交叉污染，一個腔室可實現電子槍/電阻蒸發鍍膜，另一腔室可實現濺射鍍膜。

多靶位立式磁控濺射鍍膜機

該設備可沉積單金屬、合金、及多種介質膜，多層膜；主要用于Φ150-Φ500輪轂型金屬、非金屬零件表面沉積各類功能膜（耐磨、防腐、導電膜、絕緣膜等）的研發和小批生產。

通用磁控濺射鍍膜機

磁控濺射鍍膜機是應用最廣泛的PVD沉積設備，可用于各種單層膜、多層膜和摻雜膜系。可鍍各種硬質膜、金屬膜、合金、化合物、半導體、陶瓷膜、介質復合膜和其他化學反應膜，亦可鍍鐵磁材料。該設備主要用于實驗室制備光學膜層，電學，光電膜層及其它功能膜層，以及制備用于生長納米材料的催化劑薄膜層。該設備廣泛應用于大專院校及相關科研機構。

SBC-2型多功能試樣表面處理機

應用領域：
透射電鏡、離子探針、掃描電鏡、能譜儀分析等樣品制備，理化分析、科學研究等。
主要功能：
具備離子噴涂、離子濺射、離子清洗、蒸碳等功能

SBC-12小型離子濺射儀

本儀器主要用于掃描電子顯微鏡樣品鍍覆導電膜（金膜），儀器操作簡單方便，是配合中小型掃描電子顯微鏡制樣必備的儀器。

直線式勞埃透鏡鍍制機

直線式勞埃透鏡鍍制機，是為高能同步輻射光源（HEPS）研發的高端儀器裝備，用于制備硬X射線納米聚焦的勞埃透鏡膜層。最主要的特點是膜層層數多（數千層甚至更多）且膜層位置和厚度精度高（總位置平均誤差小于±5nm，每層的厚度誤差小于0.1nm）。為了保證每個膜層的厚度精度，采用磁控濺射技術來實現膜片的制備，其優點是，能夠精確控制膜層厚度，重復性好，薄膜與基片結合緊密，薄膜純度高、致密性好。

倍增級磁控鍍膜機

倍增級磁控鍍膜機主要應用于光電倍增管倍增級表面的銻膜鍍制。在膜層制備過程中可實現對光電倍增管的倍增級基底進行烘烤除氣、離子轟擊清潔、膜層沉積和偏電壓輔助、膜厚工藝測試等功能，可進行數字化編程、程序控制和動態監測，能夠實時顯示、記錄、統計、計算、保存、輸出各種運行數據，達到精確控制膜厚和沉積均勻性的要求。

MPO專用遮光膜鍍膜設備

該設備為高真空電子束蒸鍍設備，即利用高能量密度的電子束轟擊被鍍材料，使其氣化并沉積在基片表面；此設備為在石英或其它材料表面沉積鎳鉻合金或其它單金屬、合金；設備由立式前開門水冷真空室、真空系統、工裝系統、電子束沉積系統、離子轟擊系統、加熱系統、測量及監控系統、電控系統、輔助系統（機架、工藝氣路、壓空氣路、冷卻水路、附件）等組成。